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J-GLOBAL ID：201202237683635488   整理番号：12A0645732

有機エレクトロニクス用マイクロ構造の開発のためのツールとしてのPMMA及びSU-8膜への陽子ビーム描画

Proton beam writing on PMMA and SU-8 films as a tool for development of micro-structures for organic electronics

著者 (6件)： SARKAR Mihir (Dep. of Physics, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur 208016, IND) ,  SHUKLA Neeraj (Dep. of Physics, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur 208016, IND) ,  BANERJI Nobin (Dep. of Physics, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur 208016, IND) ,  MOHAPATRA Y.n. (Dep. of Physics, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur 208016, IND) ,  MOHAPATRA Y.n. (Materials Sci. Programme, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur 208016, IND) ,  MOHAPATRA Y.n. (Samtel Center for Display Technologies, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur 208016, IND)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 258  号： 9  ページ： 4195-4198  発行年： 2012年02月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポジティブ及びネガティブレジストとして,それぞれ,PMMA及びSU-8を用いた,可変幅マイクロチャネルの作製を報告した。パターンを,約1μmまで集束した2MeV陽子ビームを用いて書き込んだ。両レジストにおいて,数ミクロンからより広いものまで変わる幅の明確な周期的マイクロチャネルを実現した。マスクレスリソグラフィーのため,これは,いくつかの幅とパターンをもつテスト構造に関して,ターンアラウンドタイムを短縮する効率的な方法を与えた。OLED/TFTにおけるパターン化構造への可能な応用を議論した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  レジスト ,  フォトレジスト ,  ターンアラウンド時間 ,  パターン形成 ,  *マイクロチャネル
準シソーラス用語： PMMA ,  *SU-8 ,  *イオンビームリソグラフィー ,  ネガティブレジスト ,  ポジティブレジスト ,  *陽子ビーム描画

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (7件)： 有機エレクトロニクス ,  マイクロ構造 ,  開発 ,  ツール ,  PMMA ,  SU-8 ,  陽子ビーム描画