抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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エレクトロニクス産業では,3次元実装をはじめ電子部品の小型化・薄型化の技術進展がめざましく,生産・実装工程において3次元計測の要求が強くなっている。これまで光を用いたさまざまな3次元計測方法があるが,測定物体上をスキャンさせるため計測時間が長く,オフラインでの計測用途が主であった。この課題に対し,反射型位相シフトモアレ技術を開発し,一回の測定で3次元計測データが得られ生産ライン内での計測を可能にした。さらに,新技術CIOS(Complimentary Irises Optical System)光学系により鏡面・粗面同時計測が実現できた。本稿では,本3次元計測技術を紹介し,その特徴について述べる。