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J-GLOBAL ID：201202238058478192   整理番号：12A1727445

自立グラフェンの汎用製造用のグラフェンレジストインタレーシング工程

Graphene resist interlacing process for versatile fabrication of free-standing graphene

著者 (7件)： KUMAR S (Centre for Res. on Adaptive Nanostructures and Nanodevices (CRANN), Dublin, IRL) ,  KUMAR S (Trinity Coll. Dublin, Dublin, IRL) ,  REZVANI E (Centre for Res. on Adaptive Nanostructures and Nanodevices (CRANN), Dublin, IRL) ,  REZVANI E (Trinity Coll. Dublin, Dublin, IRL) ,  NICOLOSI V (Univ. Oxford, Oxford, GBR) ,  DUESBERG G S (Centre for Res. on Adaptive Nanostructures and Nanodevices (CRANN), Dublin, IRL) ,  DUESBERG G S (Trinity Coll. Dublin, Dublin, IRL)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 23  号： 14  ページ： 145302,1-4  発行年： 2012年04月13日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 織布状高分子支持体の間に大面積のグラフェンを挟み込むためのグラフェンレジストインタレーシング工程(GRIP)を示した。高分子の支持体は要求に合わせてパターン形成でき,様々な二次元及び三次元構造を可能にする。ここでは高分子の線の間にグラフェンを挟んだ矩形メッシュを作製し,ナノ粒子の透過型電子顕微鏡(TEM)撮像に利用した。構造は機械的に安定で,グラフェンは高分子線に強く付着する。高分子に基づく支持体は化学的不活性や生体適合性の点で金属支持体よりも優れている。

シソーラス用語： *炭素材 ,  *フォトレジスト ,  網 ,  *電子顕微鏡観察 ,  支持物 ,  *グラフェン

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 自立 ,  グラフェン ,  汎用