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J-GLOBAL ID:201202238411201957   整理番号:12A0145984

TiNとCrNのPVD被覆オーステンパ球状化黒鉛鋳鉄:皮膜特性と基板ミクロ組織へのプロセスパラメータの影響の解析

PVD TiN and CrN Coated Austempered Ductile Iron: Analysis of Processing Parameters Influence on Coating Characteristics and Substrate Microstructure
著者 (6件):
資料名:
巻: 52  号:ページ: 121-126 (J-STAGE)  発行年: 2012年 
JST資料番号: F0100A  ISSN: 0915-1559  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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本研究では異なるノジュール数と表面粗さのADI基板に蒸着し,360°CでオーステンパしたTiNとCrN皮膜特性へのPVDプロセスパラメータの影響を調査した。工業用の反応器を用い,パラメータセット(バイアス電圧,アーク電流,チャンバー圧力,基板温度:-100~-250V,60~65A,0.7~2.8Paと280~450°C)と変えてアークイオンめっきし成膜した。また,基板ミクロ組織の異なった蒸着条件による効果を解析した。各々の皮膜の相組成,優先配向,表面トポロジ,膜厚,硬度と接着性は決定した。各基板の残留オーステナイト量と硬度を皮膜蒸着前後に分けて計算した。得られた結果は,評価された蒸着条件と皮覆材料の違いは,トポロジとHF1とHF2間の指数に関連付けられる皮膜接着性のいずれにおいて著しい変化をもたらさなかった。皮膜接着性は基板の粗さの違いには影響されなかった。バイアス電圧,アーク電流とチャンバ圧の組み合わさった低減により,TiN成長速度と硬度は低減した。一方,高い基板温度はTiNとCrNの成長速度を増加させた。基板温度,約300°Cで240minまでの蒸着時間ではオーステナイト-フェライト基ミクロ組織には目に見える変化は見られなかった。一方,400°C,またはそれ以上の温度では,短い蒸着時間でも明確なミクロ組織にははっきりした劣化が見られた。(翻訳著者抄録)
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