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J-GLOBAL ID:201202238712197548   整理番号:12A0893944

テーパー電子ブロック層を用いたAlN基板上の250nmAlInNレーザダイオードの設計と解析

Design and Analysis of 250-nm AlInN Laser Diodes on AlN Substrates Using Tapered Electron Blocking Layers
著者 (7件):
資料名:
巻: 48  号: 5-6  ページ: 703-711  発行年: 2012年05月 
JST資料番号: H0432A  ISSN: 0018-9197  CODEN: IEJQA7  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,均一電子ブロック層を有するAlInNレーザの,界面分極電荷に起因する効率低下や利得減少を改善するために,テーパー電子ブロック層を有するAlN基板上の250nmAlInNレーザダイオードの設計を提案し,その数値シミュレーションの結果を提示した。本研究で使用したAlInNレーザダイオードのバンド構造パラメータとシミュレーション手法について詳細に解説した。テーパー電子ブロック層およびいくつかの代替手法を使用したAlInNレーザダイオードについて,入力電流-出力電力特性,および面内格子定数-閾値電流と-発振波長特性の数値シミュレーション結果を提示した。結果は,均一電子ブロック層の設計は,分極電荷に起因する寄生反転層による光学利得減少を示したが,テーパー電子ブロック層の設計では,分極電荷の体積再配分により光学利得が改善されることを示した。これは,提案設計のテーパー電子ブロック層AlInNレーザダイオードが,AlGaN系UVレーザダイオードの代替品として有望であることを示唆している。
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分類 (1件):
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半導体レーザ 

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