文献

J-GLOBAL ID：201202240902190463   整理番号：12A1194037

スクリーン印刷用高分解能レジスト:Ag回路の直接製造への応用

High-resolution resist for screen printing: application to direct fabrication of Ag circuit

著者 (7件)： OKAMURA Haruyuki (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  KAYANOKI Minoru (Shin-Nakamura Chemical, Co., Ltd., Wakayama, JPN) ,  TAKADA Kohei (Shin-Nakamura Chemical, Co., Ltd., Wakayama, JPN) ,  NAKAJIRI Hideyuki (Nakanuma Art Screen, Co., Ltd., Kyoto, JPN) ,  MURAMATSU Keiko (Nakanuma Art Screen, Co., Ltd., Kyoto, JPN) ,  YAMASHITA Munenori (Industrial Technol. Center of Wakayama Prefecture, Wakayama, JPN) ,  SHIRAI Masamitsu (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Polymers for Advanced Technologies  (Polymers for Advanced Technologies)
巻： 23  号： 8  ページ： 1151-1155  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： W0503A  ISSN： 1042-7147  CODEN： PADTE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スクリーン印刷による銀ペーストの直接描画用のフォトレジストを開発した。環状アセタールを有するポリメタクリル酸エステルをベースポリマとし,光開始剤,架橋剤,ベースポリマ組成を鉛筆硬度と耐刷性を尺度に選定した。これをスクリーン上に塗布し,光重合と現像によりパターン形成させた。このスクリーンを用いて銀ペーストを印刷し,幅13μmの回路パターンを作製できた。

シソーラス用語： *高分解能 ,  *スクリーン印刷 ,  *回路パターン形成 ,  *光酸発生剤 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  *光開始剤 ,  *感光性高分子 ,  *架橋剤 ,  インク ,  *ポリメタクリル酸エステル ,  脱保護基 ,  紫外線照射 ,  光架橋 ,  耐久性 ,  *最適条件
準シソーラス用語： テトラヒドロピラン化合物 ,  ナフタルイミド類 ,  フレキシブルプリント回路 ,  *ポジティブフォトレジスト ,  鉛筆硬度 ,  銀ペースト ,  後光硬化 ,  耐刷性 ,  直接描画

分類 (4件)： アクリル樹脂  (YH07110K) ,  橋かけ剤とその触媒  (YH05020Y) ,  橋かけ  (YH04100E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (7件)： テトラメチルアンモニウムヒドロキシド ,  ペンタエリスリトールトリアクリラート ,  トリフルオロメタンスルホン酸1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-ベンゾ[de]イソキノリン-2-イル ,  [4-(フェニルチオ)フェニル]ジフェニルスルホニウム・ヘキサフルオロホスファート ,  ダロクール1173 ,  (2,2,6,6-テトラメチル-4-ヒドロキシピペリジノオキシ)ラジカル ,  メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル

タイトルに関連する用語 (5件)： スクリーン印刷 ,  高分解能 ,  レジスト ,  Ag ,  応用