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J-GLOBAL ID：201202241852711188   整理番号：12A1032438

パルス直流マグネトロンスパッタリングにより調製した表面テクスチャ化ZnO:Al膜に及ぼすNaOH溶液の影響

Effect of NaOH solution on surface textured ZnO: Al films prepared by pulsed direct current magnetron sputtering

著者 (10件)： WANG Ying (School of Materials Sci. and Engineering, Dalian Jiaotong Univ., Dalian 116028, CHN) ,  WANG Ying (Engineering Res. Center of Optoelectronic Materials and Devices, Education Dep. of Liaoning Province, Dalian 116028, CHN) ,  WANG Hualin (School of Materials Sci. and Engineering, Dalian Jiaotong Univ., Dalian 116028, CHN) ,  WANG Hualin (Engineering Res. Center of Optoelectronic Materials and Devices, Education Dep. of Liaoning Province, Dalian 116028, CHN) ,  LIU Chaoqian (School of Materials Sci. and Engineering, Dalian Jiaotong Univ., Dalian 116028, CHN) ,  LIU Chaoqian (Engineering Res. Center of Optoelectronic Materials and Devices, Education Dep. of Liaoning Province, Dalian 116028, CHN) ,  WANG Yun (Bengbu Design & Res. Inst. for Glass Ind., Bengbu 233018, CHN) ,  PENG Shou (China Triumph International Engineering Co., Ltd., Bengbu 233018, CHN) ,  CHAI Weiping (School of Materials Sci. and Engineering, Dalian Jiaotong Univ., Dalian 116028, CHN) ,  CHAI Weiping (Engineering Res. Center of Optoelectronic Materials and Devices, Education Dep. of Liaoning Province, Dalian 116028, CHN)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 15  号： 5  ページ： 555-558  発行年： 2012年10月 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルス直流マグネトロンスパッタリングにより,透明導電AlドープZnO(ZnO:Al,AZO)薄膜を,270°Cの基板温度で調製した。NaOH溶液(5wt%)を用いて,室温でAZO膜をエッチングして,表面テクスチャ化AZO膜を得ることに成功した。表面テクスチャ化構造と,エッチング時間により制御するエッチングプロセスとの間の関係を論じた。エッチングしたAZO膜のテクスチャ化形態は,エッチング時間の増加とともに明確になり,30分間エッチングしたAZO膜は,均一で明瞭なクレータ状の表面テクスチャ化構造を示した。これに応じて,くもりと抵抗率は,エッチング時間の増加とともに増加した。そして,30分間エッチングしたAZO膜の抵抗率は3.2×10^-3Ωcmであった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  酸化亜鉛 ,  ドーピング ,  アルミニウム ,  水酸化ナトリウム ,  *エッチング ,  湿式法 ,  *半導体薄膜 ,  材料 ,  テクスチャ処理 ,  *半導体プロセス ,  水溶液
準シソーラス用語： パルス直流マグネトロンスパッタリング ,  光電材料

分類 (3件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の表面処理  (WC08070F)

タイトルに関連する用語 (7件)： パルス ,  直流マグネトロンスパッタリング ,  調製 ,  表面テクスチャ ,  ZnO ,  Al膜 ,  NaOH溶液