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J-GLOBAL ID:201202243731915536   整理番号:12A0231321

その場化学反応法によるウルツ鉱CdS薄膜の生成に及ぼす,陰イオン濃度と析出温度の影響

Influence of anionic concentration and deposition temperature on formation of wurtzite CdS thin films by in situ chemical reaction method
著者 (7件):
資料名:
巻: 517  ページ: 54-60  発行年: 2012年03月15日 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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反応源としてカドミウム前駆体固体薄膜を,陰イオンの反応媒質として硫化ナトリウム基の溶液を,それぞれ使用して,新しいその場化学反応合成法で,ナノ結晶質のCdS薄膜をガラス基材に析出した。別々の陽イオン前駆体溶液と陰イオン前駆体溶液でのS:Cdモル濃度と,析出温度の,析出したCdS薄膜の結晶構造,モルホロジー,化学成分,および光学的性質への影響を,X線回折,電界放射走査電子顕微鏡,エネルギー分散型X線分析,およびUV-vis分光で調査した。その場化学反応合成で析出したCdS薄膜は,(002)面の優先配向があるウルツ鉱型構造を持ち,この傾向は,S:Cdのモル濃度比の増加とともに,徐々に向上した。析出速度は,20°Cから60°Cまでの析出温度の範囲で,1サイクルあたり80~100nmの厚さであった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  塩 
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