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J-GLOBAL ID：201202244231990309   整理番号：12A1636372

先端電子デバイスの量産を支える超精密研磨技術 ガラス研磨の計算科学シミュレーション:酸化セリウムに代わる代替砥粒の設計指針の提案

著者 (3件)： 尾澤伸樹 (東北大 大学院工学研究科 エネルギー安全科学国際研究セ) ,  中村美穂 (東北大 大学院工学研究科 エネルギー安全科学国際研究セ) ,  久保百司 (東北大 大学院工学研究科 エネルギー安全科学国際研究セ)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 78  号： 11  ページ： 941-946  発行年： 2012年11月05日 
JST資料番号： F0268C  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 著者らは,ガラス基板の研磨剤として使用されている酸化セリウム(CeO₂)砥粒の代替材料として,提案した砥粒の設計指針をSrFeO₃とCaZrO₃に応用し,その有効性を明らかにし,さらに発展させた代替砥粒の設計指針を提案した。本報ではこれらの最新の成果について紹介し解説した。主な内容項目を次に示した。1)はじめに:代替砥粒設計指針の確立経緯,化学機械研磨装置の概略図など,2)酸化セリウム砥粒がガラス表面に対して優れた研磨性能を有するメカニズム:La固溶により酸化セリウム砥粒の表面構造が変化する現象の模式図,著者らが明らかにした酸化セリウム砥粒によるガラス表面の化学機械研磨メカニズム,代替砥粒の設計指針,3)代替砥粒候補であるSrFeO₃が高い研磨性能を有するメカニズムと添加元素の効果:SrFeO₃を構成する各原子の電荷,Co添加SrFeO₃とNi添加SrFeO₃を構成する各原子の電荷,4)添加元素がSrFeO₃の研磨性能を向上させるメカニズム:SrFeO₃(001)の表面モデル,構造最適化によるSrFeO₃(001)面の構造解析モデルとその解析結果,O原子6個と結合したCo³⁺とNi³⁺の電子状態とそれがもたらす構造変化など,5)ZrO₂砥粒に比較して代替砥粒候補であるCaZrO₃が高い研磨性能を有するメカニズム:CaZrO₃を構成する各原子の電荷,CaZrO₃(001)の表面モデルと第一原理計算による構造最適化計算結果など,6)CeO₂よりも性能の高いCaCeO₃砥粒の理論的提案:CaCeO₃を構成する各原子の電荷,CaCeO₃(001)の表面第一層を構成するCeO₂層の各原子の位置など。

シソーラス用語： *基板 ,  固体素子 ,  超精密加工 ,  化学研磨 ,  超小形回路技術 ,  *研磨剤 ,  *砥粒 ,  酸化セリウム ,  数値解析 ,  分子動力学 ,  代替案 ,  二酸化ケイ素 ,  *数値解法 ,  計算機シミュレーション ,  *化学機械研磨
準シソーラス用語： *ガラス基板 ,  設計指針 ,  第一原理計算 ,  *超精密研磨 ,  *電子デバイス

分類 (3件)： 特殊加工  (QC04000Y) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  数値計算  (JE02000J)

引用文献 (5件)：

• 1) 日経ものづくり2011年1月号,日経BP社, (2011).
• 2) 尾澤伸樹,石川宗幸,中村美穂,久保百司:CeO₂砥粒によるWet環境下でのSiO₂の研磨加工シミュレーション,表面科学,33, 6 (2012) 351.
• 3) 本間隆行,須田聖一,川原浩一,木下久美子:鉄系ペロブスカイト酸化物砥粒のガラス研磨特性に及ぼすCo添加の影響,2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集, (2011) 359.
• 4) 本間隆行,川原浩一,須田聖一:日本国特開,2012-122042, (2012).
• 5) 澤野勉,森脇悠,丸山高宏:日本国特許,5046259, (2012).

タイトルに関連する用語 (12件)： 電子デバイス ,  量産 ,  超精密研磨 ,  ガラス ,  研磨 ,  計算科学 ,  シミュレーション ,  酸化セリウム ,  代替 ,  砥粒 ,  設計指針 ,  提案