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J-GLOBAL ID：201202245227733900   整理番号：12A0607592

O₂およびAr雰囲気での水上パルス放電におけるフェノール分解過程

Phenol Decomposition Process by Pulsed-discharge Plasma above a Water Surface in Oxygen and Argon Atmosphere

著者 (5件)： 塩田晴基 (室蘭工業大学大学院 工学研究科 情報電子工学系専攻) ,  板橋秀幸 (室蘭工業大学大学院 工学研究科 情報電子工学系専攻) ,  佐藤孝紀 (室蘭工業大学大学院 工学研究科 情報電子工学系専攻) ,  佐藤孝紀 (室蘭工業大学 環境科学・防災研究センター) ,  伊藤秀範 (室蘭工業大学大学院 工学研究科 情報電子工学系専攻)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 132  号： 4  ページ： 297-304 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 難分解性化学物質等による汚染水の浄化に有効な促進酸化法の分解過程解明のためバックグラウンド(BG)ガスを変化させてフェノールを分解し,分解生成物を詳細に分析して分解過程について検討した。実験装置の構成,BGガスとしてAr,O₂雰囲気およびAr-O₂混合ガスの混合比等を示し,パルスの発生方法,照射時間等を示した。実験結果として電流・電圧波形,放電形状,分解率,pHおよび導電率の変化を明らかにした。BGガスをAr雰囲気としたときおよびBGガスをO₂雰囲気としたときのフェノール分解生成物の調査結果を示し分解過程を推定した。BGガスのAr-O₂混合割合を変化させた場合の分解過程に対する影響を調査し,分解生成物はO₂雰囲気と同じであると述べた。

シソーラス用語： *パルス放電 ,  水上 ,  雰囲気 ,  *廃水処理 ,  アルゴン ,  *フェノール類 ,  *下水処理 ,  バックグラウンド ,  酸素 ,  フェノール分解 ,  酸素雰囲気
準シソーラス用語： 汚水処理

分類 (1件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

引用文献 (10件)：

• MALIK, M. A. Water purification by electrical discharge. Plasma Sources Sci. Technol. 2001, 10, 82-91
• LUKES, P. Generation of ozone by pulsed corona discharge over water surface in hybrid gas-liquid electrical discharge reactor. J. Phys. D : Appl. Phys. 2005, 38, 409-416
• KUROKI, T. Decomposition of Trace Phenol in Solution Using Gas-Liquid Interface Discharge. JJAP. 2006, 45, 5A, 4296-4300
• HOEBEN, W. F. L. M. Gas phase corona discharges for oxidation of phenol in aqueous solution. J. Phys. D : Appl. Phys. 1999, 32, L133-L137
• SATO, M. Aqueous phenol decomposition by pulsed discharges on the water surface. IEEE Trans. Ind. Appl. 2008, 44, 5, 1397-1402

タイトルに関連する用語 (6件)： O2 ,  Ar雰囲気 ,  水上 ,  パルス放電 ,  フェノール ,  分解過程