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J-GLOBAL ID：201202247550362166   整理番号：12A1429733

SMO発生プロセスのためのスキャナーに対する画像光学系セットアップと最適化

Imaging optics setup and optimization on scanner for SMO generation process

著者 (4件)： MATSUYAMA Tomoyuki (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  OGATA Taro (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  MIZUNO Yasushi (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  OHMURA Yasuhiro (Nikon Corp., Saitama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8326  号： Pt.1  ページ： 83260N.1-83260N.10  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ソースマスク最適化(SMO)は22nmリソグラフィを達成するk1係数低減実現に有望な方法である。しかしながら,小さいk1の画像形成は照明源形状の詳細,レンズ収差,プロセス設定などの多くの画像パラメータに敏感である。SMOは限定されたパターンに行われるので,単一プロセスの照明設定数は増加し瞳におけるフルエンスは増加する。従って,様々なSMO解をスキャナーで可能にするには,熱収差制御パラメータを含む画像システム設定を迅速かつ正確にする必要がある。パラメータ設定の主要要素は,1)自由形式ピューピルグラム発生,2)OPEマッチング,3)熱収差予測と制御,である。高精度とスピードを同時に実現する設定方法を示した。本方法は,実際の製品露光で計算リソグラフィ実現に使用可能である。

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  *リソグラフィー ,  走査装置 ,  収差 ,  レンズ ,  瞳孔 ,  フルエンス ,  *最適化 ,  整定 ,  近接効果 ,  補正 ,  Zernike多項式
準シソーラス用語： スキャナ ,  セットアップ ,  *近接効果補正 ,  計算リソグラフィー ,  設定 ,  瞳 ,  *露光装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： SMO ,  プロセス ,  スキャナー ,  光学系 ,  セットアップ ,  最適化