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J-GLOBAL ID:201202248358277046   整理番号:12A0746473

同時スパッタリングプロセスにより蒸着させたチタン酸亜鉛薄膜のナノインデンテーション応答

Nanoindentation response of zinc titanate thin films deposited by co-sputtering process
著者 (7件):
資料名:
巻: 258  号: 18  ページ: 6730-6734  発行年: 2012年07月01日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本報では,ZnTiO3膜を,焼結セラミックターゲットを用いた高周波マグネトロン同時スパッタリングによりシリコン基板上に成長させ,520ないし820°Cの温度範囲における熱処理後の膜の硬度(H)および弾性率(E)をCSMモード下のナノナノインデンテーション技術を用いて評価した。ZnTiO3膜の硬度および弾性率の測定値は,8.5±0.4から5.6±0.4GPa,および171±2.3から155±2.5GPaの範囲にそれぞれあった。高温熱処理による粗さの増加が原子間力顕微鏡で明白になった。蒸着直後の膜は主に非晶質だが,XRDパターンは,620から820°Cで(104),(110),(116)および(214)ピークをもつ六方晶のZuTiO3相の形成を示し,シリコン基板上では高度に(104)配向ZnTiO3が存在することを明らかにした。X線光電子分光によるO1s内殻準位解析からは,熱処理温度が高いほど,結合は弱くなり,抵抗が低くなるという測定結果を得た。H,M,RmsおよびRaは結晶粒粗大化により改変され,緩和された結晶性が生じた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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酸化物薄膜  ,  固体の機械的性質一般  ,  非金属材料へのセラミック被覆 

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