文献

J-GLOBAL ID：201202252480580423   整理番号：12A0960675

パルス成形技術と組み合わせた開口近接場光学顕微鏡におけるサブ20fs時間分解測定

Sub-20-fs Time-Resolved Measurements in an Apertured Near-Field Optical Microscope Combined with a Pulse-Shaping Technique

著者 (6件)： WU Hui Jun (Graduate Univ. Advanced Studies, Aichi, JPN) ,  NISHIYAMA Yoshio (Graduate Univ. Advanced Studies, Aichi, JPN) ,  NARUSHIMA Tetsuya (Graduate Univ. Advanced Studies, Aichi, JPN) ,  IMURA Kohei (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  IMURA Kohei (JST-PRESTO, Saitama, JPN) ,  OKAMOTO Hiromi (Graduate Univ. Advanced Studies, Aichi, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 5  号： 6  ページ： 062002.1-062002.3  発行年： 2012年06月25日 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プローブチップで17fsの持続時間を持つ近接場ポンププローブパルスを用いた超高速近接場光学顕微鏡システムを開発した。光学素子,特に光ファイバから生じる分散効果を,受動適応群速度分散補償器からなるパルス成形システムにより取り除いた。この装置を用いて,10fsのオーダーの時定数で,単一金ナノ構造における脱位相化を測定することに成功した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 波形成形 ,  *走査型プローブ顕微鏡 ,  *走査光学顕微鏡 ,  計測 ,  ポンププローブ法 ,  オプトエレクトロニクス ,  補償装置 ,  デフェージング
準シソーラス用語： パルス成形 ,  *近接場光学顕微鏡 ,  時間分解法 ,  超高速光技術 ,  分散補償器 ,  脱位相

分類 (1件)： 光学的測定とその装置一般  (BD07010S)

タイトルに関連する用語 (3件)： パルス成形 ,  近接場光学顕微鏡 ,  サブ