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J-GLOBAL ID：201202252932063588   整理番号：12A0871975

金属支援エッチングにおけるシリコンナノ構造形成に対する金属層形態の効果

Effects of Metal Layer Morphology to Silicon Nanostructure Formation in Metal-Assisted Etching

著者 (2件)： TSAO Chia-Wen (National Central Univ., Jhongli, TWN) ,  CHANG Chia-Pin (National Central Univ., Jhongli, TWN)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 12  号： 3  ページ： 2742-2749  発行年： 2012年03月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属支援エッチング法によりシリコンナノ構造を生成する簡単な方法を提案し,その際のナノ構造表面形態に影響する因子について調べた。これは,清浄シリコン表面に電子ビーム蒸着により金属薄膜を堆積した基板をエッチング液(HF,H₂O₂,EtOHの混合)に浸してナノ構造を生成する方法である。その形態に金属層の厚さが大きな影響を与えることが分かった。AuまたはAg層の厚さを3nmから10nmに増大させると,金属表面被覆率はそれぞれ35%から80%へ,または39%から85%へ増大し,シリコンナノ構造表面は多孔性から細線状またはフィラメント状に変化した。更に,エッチング時間の効果も調べたが,これは表面形態にあまり影響しないことが分かった。

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  *エッチング ,  *金属薄膜 ,  電子ビーム蒸着 ,  *表面構造 ,  *ナノ構造 ,  ナノメータ加工 ,  被覆率 ,  フィラメント ,  ナノワイヤ
準シソーラス用語： *シリコンウエハ ,  ナノフィラメント

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  半導体の表面構造  (BK15030A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 支援 ,  エッチング ,  シリコン ,  構造形成 ,  金属層 ,  形態