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J-GLOBAL ID：201202253011805470   整理番号：12A0372584

ナノ界面の世界と次世代機能 シリコンウェハー薄膜界面領域の断面走査トンネル顕微観察を目指したへき開手法の開発

著者 (3件)： 服部賢 (奈良先端科学技術大学院大) ,  立花和也 (奈良先端科学技術大学院大) ,  大門寛 (奈良先端科学技術大学院大)
資料名： 化学工業  (Chemical Industry)
巻： 63  号： 3  ページ： 226-231  発行年： 2012年03月01日 
JST資料番号： F0101A  ISSN： 0451-2014  CODEN： KAKOA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 断面走査トンネル顕微法(XSTM)は,界面を含む試料の断面をSTM観察,走査トンネル分光測定することにより,界面を原子分解能で顕微観察かつ電子状態測定を行う手法である。CZ-Si(111)ウェハーの界面領域のSTM観察/STS測定を目指した,界面断面の清浄面を得るためのへき開面作成法について述べた。1)Siのへき開,2)大気中でのへき開法の検討,3)超高真空でのへき開と超高真空STM観察。罫書き線の入れ方次第で,ウェハー表面側のへき開面が平坦で,表面に平行な長周期のチェイン構造をもつシングルドメインになることを示した。

シソーラス用語： *界面 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  断面 ,  *劈開【結晶】 ,  MOSFET ,  スペクトロスコピー ,  結晶方位 ,  表面構造 ,  ケイ素 ,  罫書き ,  超高真空 ,  薄膜 ,  電子状態 ,  原子構造 ,  *ウエハ【IC】
準シソーラス用語： XSTM ,  *シリコンウエハ ,  *ナノ界面 ,  界面構造 ,  走査トンネル分光

分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (12件)： ナノ界面 ,  世界 ,  次世代 ,  シリコンウェハー ,  薄膜 ,  界面 ,  走査 ,  トンネル ,  顕微観察 ,  へき開 ,  手法 ,  開発