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J-GLOBAL ID：201202253027546962   整理番号：12A1174618

二段ミクロ/ナノスフェアリソグラフィーで調製したSiO₂のミクロ/ナノロッド2D階層構造

Superhydrophobicity of 2D SiO₂ hierarchical micro/nanorod structures fabricated using a two-step micro/nanosphere lithography

著者 (3件)： PARK Hoo Keun (Kookmin Univ., Seoul, KOR) ,  YOON Seong Woong (Kookmin Univ., Seoul, KOR) ,  DO Young Rag (Kookmin Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 22  号： 28  ページ： 14035-14041  発行年： 2012年07月28日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超疎水性表面をシリカ微粒子の二次元アレイで作った。リソグラフィー(LG)と反応性イオンエッチング(RIE)を交互に使った。テンプレートとしてポリスチレンビーズ(PSB)ミクロスフェアを自己集合させたシリカ面にクロム蒸着し,これをマスクにして垂直にエッチングし,マイクロロッドアレイとする。その上にナノスフェアPSBの集合で同様にナノロッドを配列し階層構造にした。ロッド配列は六方晶系で,直径約842nm,格子定数2μm,高さ約1μmのアレイを作り,その上に同様に直径約150nm,格子定数420nm,高さ約250nmのナノロッドアレイをシリカで作った。これをフルオロアルキルシランで表面改質すると接触角が最大160.4°の超疎水性でヒステリシスが小さい面になった。2インチ角のガラス板にこの超疎水性階層構造をすくい取り転写する大規模二段工程は,マイクロ流体素子,ラボオンチップ,バイオ分離,センサに利用できる。

シソーラス用語： ミクロスフェア ,  ナノ粒子 ,  *二次元 ,  *階層構造 ,  *RIE【エッチング】 ,  *型枠 ,  *ポリスチレン ,  *粒状材 ,  *微細構造 ,  *ナノロッド ,  六方晶系 ,  表面改質 ,  転写 ,  流体素子 ,  装置 ,  分離 ,  センサ ,  *リソグラフィー ,  *疎水性 ,  有機フッ素化合物 ,  シラン誘導体 ,  アルキル基 ,  *配列 ,  *二酸化ケイ素 ,  マイクロ流体デバイス
準シソーラス用語： *シリカ ,  *テンプレート【型板】 ,  ナノスフェア ,  *ナノロッドアレイ ,  バイオ分離 ,  フルオロアルキル基 ,  *ポリスチレンビーズ ,  *マイクロロッド ,  マイクロ流体素子 ,  ラボオンチップ ,  *超疎水性 ,  *反応性イオンエッチング ,  ペルフルオロ化合物

分類 (2件)： その他の無機工業薬品,無機材料  (YB02090K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： ナノスフェアリソグラフィー ,  調製 ,  SiO2 ,  ナノロッド ,  2D ,  階層構造