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J-GLOBAL ID：201202254179701480   整理番号：12A1337697

無電解めっきでの高アスペクト比スルーSiビアにおけるPdナノ粒子触媒の吸着

Adsorption of Pd nanoparticles catalyst in high aspect ratio through-Si vias for electroless deposition

著者 (9件)： INOUE Fumihiro (Kansai Univ., 3-3-35 Yamate-Cho, Suita, Osaka, JPN) ,  SHIMIZU Tomohiro (Kansai Univ., 3-3-35 Yamate-Cho, Suita, Osaka, JPN) ,  MIYAKE Hiroshi (Kansai Univ., 3-3-35 Yamate-Cho, Suita, Osaka, JPN) ,  ARIMA Ryohei (Kansai Univ., 3-3-35 Yamate-Cho, Suita, Osaka, JPN) ,  ITO Toshihiko (Toray Res. Center, Inc., 3-3-7 Sonoyama, Otsu, Shiga, JPN) ,  SEKI Hirofumi (Toray Res. Center, Inc., 3-3-7 Sonoyama, Otsu, Shiga, JPN) ,  SHINOZAKI Yuko (Toray Res. Center, Inc., 3-3-7 Sonoyama, Otsu, Shiga, JPN) ,  YAMAMOTO Tomohiko (Toray Res. Center, Inc., 3-3-7 Sonoyama, Otsu, Shiga, JPN) ,  SHINGUBARA Shoso (Kansai Univ., 3-3-35 Yamate-Cho, Suita, Osaka, JPN)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 82  ページ： 372-377  発行年： 2012年11月01日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 筆者らは,触媒としてPdナノ粒子(Pd-NP)を使用して,スルーSiビアにおける(TSV)における無電解Co-W-Bめっきについて検討した。高アスペクト比TSVにおいてSiO₂上に吸着したPdNPの密度は,長い吸着処理後で,8500/μm²を超えた。Pd-NP凝塊形成はみられなかった。対照的に,大きな粒子の塊は,従来のSn-Pdコロイド吸着処理後にみられた。Pd-NP触媒を使用して,ひっしゃらは,高アスペクト比TSVにおける薄い連続無電解Co-W-Bバリヤー層の形成に成功した。Co-W-B層の付着強度は,Pd-NPの粒子密度の増加にともなって増加した。これらの結果は,Pd-NP触媒による過程が,低温で高アスペクト比TSVにおける薄いバリヤー層の形成のための有望な方法であることを示す。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *無電解めっき ,  *パラジウム触媒 ,  吸着 ,  ナノ粒子 ,  アスペクト比 ,  バイアホール
準シソーラス用語： 高アスペクト比

分類 (3件)： 無電解めっき  (WC08024S) ,  貴金属触媒  (CB06122I) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (7件)： 無電解めっき ,  高アスペクト比 ,  スルーSiビア ,  Pd ,  ナノ粒子 ,  触媒 ,  吸着