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J-GLOBAL ID：201202254403914370   整理番号：12A1437494

製造温度に依存しない臨界電流特性を有するナノロッド導入RE123薄膜の作製と微細組織評価

著者 (3件)： 春田正和 (高知工大 環境理工) ,  一瀬中 (電力中研) ,  堀井滋 (高知工大 環境理工)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.11P-A1-1  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： バリウム化合物 ,  希土類元素化合物 ,  酸化物 ,  銅化合物 ,  高温超伝導体 ,  *超伝導薄膜 ,  イットリウム化合物 ,  エルビウム化合物 ,  ニオブ化合物 ,  レーザ蒸着 ,  Nd-YAGレーザ ,  基板温度 ,  X線回折 ,  結晶方位 ,  *臨界電流 ,  透過型電子顕微鏡 ,  ナノロッド ,  磁束ガラス ,  Bose系 ,  *微細構造
準シソーラス用語： RE123

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

タイトルに関連する用語 (7件)： 臨界電流 ,  ナノロッド ,  RE123 ,  薄膜 ,  作製 ,  微細組織 ,  評価