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J-GLOBAL ID：201202255804809410   整理番号：12A0339411

リソグラフィー用マスクとしてのキラルネマチック流体

Chiral Nematic Fluids as Masks for Lithography

著者 (6件)： JEONG Hyeon Su (Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR) ,  KIM Yun Ho (Korea Res. Institution of Chemical Technol., Daejeon, KOR) ,  LEE Ji Sun (Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR) ,  KIM Jung Hyun (Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR) ,  SRINIVASARAO Mohan (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  JUNG Hee-Tae (Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 24  号： 3  ページ： 381-384  発行年： 2012年01月17日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ネマチック液晶(5CB)/キラルドーパント(CB15)の組合せのキラルネマチック液晶膜をマスクとして利用して微細構造をパターン形成する方法を開発した。コレステリック液晶に電圧印加して基板と平行に配向させ,偏光紫外線を照射してフォトレジスト上に微細構造を露光し,現像した後偏光顕微鏡法および原子間力顕微鏡法によって微細構造を調べた。キラルドーパント濃度によって変化するライン幅を有する10μmオーダーのパターンを得ることができた。

シソーラス用語： *ネマチック相 ,  *ドーパント ,  *リソグラフィー ,  フォトレジスト ,  パターン形成 ,  微細構造 ,  *フォトマスク ,  芳香族ニトリル
準シソーラス用語： *キラルドーパント ,  *紫外線リソグラフィー

分類 (2件)： 固-気界面一般  (CB12041H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： 5CB ,  CB15

タイトルに関連する用語 (3件)： リソグラフィー ,  マスク ,  流体