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J-GLOBAL ID:201202256975513655   整理番号:12A1116713

XeFエキシマレーザによる溶融石英の薄い金属層を用いたレーザ誘起前面エッチング

Laser-induced front side etching of fused silica with XeF excimer laser using thin metal layers
著者 (4件):
資料名:
巻: 258  号: 23  ページ: 9138-9142  発行年: 2012年09月15日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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レーザ誘起前面エッチング(LIFE)は,例えば精密工学や光学応用のための,吸収層を用いた透明材料のレーザエッチングの方法である。様々な層厚のアルミニウム,クロム,モリブデン,銀,チタンをナノ秒XeFエキシマレーザ放射による溶融石英のエッチングトレンチのための吸収体として適用した。試料表面は10J/cm2までのレーザフルエンスと1から10までのレーザパルス数でプロセスされた。レーザフルエンスの増加と共にエッチング深さの直線的成長が見られた。膜厚依存性はより複雑で,金属薄膜の光学的性質に最も影響される。エッチングプロセス,エッチング深さ,表面修飾に及ぼすレーザフルーエンス,パルス数,吸収材料及び吸収層厚の影響を報告し,考察した。レーザフルーエンスと金属薄膜厚さに依存するエッチング深さの考察を可能とする簡単なモデルを提出した。測定は熱的モデルによる計算結果と良く一致した。LIFE法は溶融石英の150nmのエッチング深さまでのnm精度エッチングを可能にする。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  レーザ照射・損傷 

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