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J-GLOBAL ID:201202256978339141   整理番号:12A0439105

製薬活性化合物(PhACs)のナノろ過に及ぼす化学的洗浄の影響

Effects of chemical cleaning on the nanofiltration of pharmaceutically active compounds (PhACs)
著者 (3件):
資料名:
巻: 88  ページ: 208-215  発行年: 2012年03月22日 
JST資料番号: T0428B  ISSN: 1383-5866  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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2つの製薬活性化合物,すなわちスルファメトキサゾールとカルバマゼピン,のナノろ過に及ぼす化学的洗浄の影響を検討した。膜の洗浄は,未使用膜試料を制御した条件下に,酸性試薬(クエン酸),苛性ソーダ,ドデシル硫酸ナトリウム(SDS),およびエチレンジアミン四酢酸(EDTA)の洗浄試薬にさらすことによる模擬実験として,行なった。酸とSDSに長時間さらすと,膜はその負の帯電がわずかに低減する。しかし,酸および苛性ソーダの洗浄は,膜表面の疎水性を顕著に増大させた。さらに,化学的洗浄は,高分子マトリックスの空隙率を変え,膜活性層中の親水性さえ変化させる可能性があるという仮説をたてた。実際,苛性ソーダ洗浄は膜の透過性を高め,一方,酸洗浄は反対の効果をもたらした。膜の透過性の増大は,SDSおよびEDTA洗浄の結果としても観測された。本仮説は,排除率データによっても支持される。検討した4種の試薬の中で,強い苛性ソーダ洗浄(pH11.5および12)は,伝導度とカルバマゼピン排除率双方のかなりの低下をもたらした。化学的洗浄は負に帯電したスルファメトキサゾール(pH8~10)の排除率に影響しなかった。しかし,pH8以下では,スルファメトキサゾールの排除率に対する苛性ソーダ洗浄のかなりの影響があった。塩の排除率のわずかな減少も,強酸洗浄(pH1.5)の後に見られた。酸およびSDS洗浄は双方とも,カルバマゼピン排除率のわずかな増加をもたらしたが,スルファメトキサゾール排除率への影響はなかった。NF270膜の分離性能に対するEDTA洗浄の影響は,検討した4試薬の中で,最小であった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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生産関連一般  ,  膜分離 
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