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J-GLOBAL ID：201202257879492503   整理番号：12A1446018

最新オーバーレイ制御のための重みづけ最小二乗回帰

Weighted least squares regression for advanced overlay control

著者 (5件)： KLEIN Dana (KLA-Tencor Corp. Israel, Migdal Haemek, ISR) ,  ROBINSON John C. (KLA-Tencor Corp., CA, USA) ,  COHEN Guy (KLA-Tencor Corp. Israel, Migdal Haemek, ISR) ,  HUANG Chin-Chou Kevin (KLA-Tencor Corp., CA, USA) ,  PIERSON Bill (KLA-Tencor Corp., CA, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8324  号： Pt.2  ページ： 832425.1-832425.7  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リソグラフィープロセス制御とパラメータ変動の低減は,進歩する最新集積回路製造の重要な要素の一つである。オーバーレイ性能の制御は,2xおよび1xノードへの産業遷移にとって重要な因子である。ITRSロードマップによれば,4.7nm以下のオーバーレイバジェットが定められている。本稿では,このためのリソグラフィープロセス制御の改善を行った。それには,プロセス処理,走査制御,走査フリート管理,根本原因分析,連続プロセス改善などを含むオーバーレイモデリングを検討した。長年オーバーレイモデル分析には,オーバーレイ最小二乗(OLS)が使われてきた。その方式では,測定目標の非対称性が誤差の原因の一つであった。そこで,本稿では,非対称性を定量化する重みづけ最小二乗(WLS)回帰を導入し,その有効性を確認した。

シソーラス用語： *オーバレイ【計算機】 ,  最小二乗法 ,  *リソグラフィー ,  *プロセス制御 ,  重みづけ ,  非対称性 ,  モデリング ,  有効性 ,  標準 ,  予算 ,  方程式
準シソーラス用語： ITRS ,  バジェット ,  回帰式 ,  国際半導体技術ロードマップ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： オーバーレイ ,  重みづけ ,  最小二乗