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J-GLOBAL ID：201202260230380065   整理番号：12A0097505

Nd-Fe-B系厚膜磁石の作製と磁気特性

Preparation and Magnetic Properties of Thick Film Magnets

著者 (4件)： 中野正基 (長崎大学工学部電気電子工学科) ,  柳井武志 (長崎大学工学部電気電子工学科) ,  山下文敏 (ミネベア株式会社回転事業本部技術開発部門) ,  福永博俊 (長崎大学工学部電気電子工学科)
資料名： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
巻： 76  号： 1  ページ： 59-64 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ボトムアッププロセスを用いた厚膜磁石等の作製ならびに磁気特性の研究の中で,「スパッタリング法を用いた異方性Nd-Fe-B系厚膜磁石の作製に関する研究」が最も多く報告されてきた。本稿では,「スパッタリング法による異方性Nd-Fe-B系厚膜磁石の開発」,他の代表的な厚膜磁石の報告例,および著者らのパルスレーザ蒸着(PLD)法によるNd-Fe-B系厚膜磁石の最近の実験結果について解説した。1)スパッタリング法による異方性Nd-Fe-B系厚膜磁石の開発:成膜速度,基板,多層膜,厚膜化,デバイスへの応用,微細構造,2)ボトムアップ手法による厚膜磁石の開発:プラズマスプレー法,スクリーンプリント法,テープ・キャスティング法,3)PLD法により作製した等方性Nd-Fe-B系厚膜磁石の作製と磁気特性。

シソーラス用語： *永久磁石 ,  *厚膜 ,  厚膜技術 ,  鉄合金 ,  ネオジム含有合金 ,  ホウ素含有合金 ,  金属間化合物 ,  *磁気的性質 ,  スパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  磁気異方性 ,  堆積速度 ,  多層膜 ,  膜厚 ,  利用 ,  微細構造 ,  レーザ蒸着 ,  等方性 ,  MEMS ,  保磁力 ,  飽和磁化 ,  磁化率 ,  焦点合せ ,  残留磁化 ,  磁気ヒステリシス ,  走査電子顕微鏡 ,  パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： ネオジム永久磁石 ,  応用 ,  微細組織 ,  PLD法 ,  デフォーカス

分類 (2件)： 磁気的性質  (WB02020J) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N)

引用文献 (75件)：

• 1) M. Munakata and M. Yagi: J. Magn. Soc. Jpn. 18(1994) 911-916.
• 2) T. S. Chin: J. Magn. Magn. Mater. 209(2000) 75-79.
• 3) H. Fukunaga: J. Jpn. Soc. AEM. 10(2002) 28-34.
• 4) O. Cugat: Proceedings of The 17th International Workshop on Rare Earth Magnets and Their Applications, (2002) pp. 478-489.
• 5) N. M. Dempsey, N. V. Kornilov and O. Cugat: Proceedings of The 18th International Workshop on High Performance Magnets and Their Applications, (2004) pp. 779-790.

タイトルに関連する用語 (5件)： Nd ,  Fe ,  厚膜磁石 ,  作製 ,  磁気特性