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J-GLOBAL ID：201202261354454098   整理番号：12A1100103

原子間力顕微鏡法ベースのナノスケール放電加工の研究

The Study on the Atomic Force Microscopy Base Nanoscale Electrical Discharge Machining

著者 (2件)： HUANG Jen-Ching (Tungnan Univ., New Taipei City, TWN) ,  CHEN Chung-Ming (Tungnan Univ., New Taipei City, TWN)
資料名： Scanning  (Scanning)
巻： 34  号： 3  ページ： 191-199  発行年： 2012年05月 
JST資料番号： D0300B  ISSN： 0161-0457  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 放電加工法は,ダイやモールドの加工法として広く利用されている。最近,ナノスケール放電加工法が開発されている。本論文では,原子間力顕微鏡法を利用したナノスケール放電加工法について検討した。自己生産金属プローブと高圧発生器を利用して,原子間力顕微鏡を構築し,原子間力顕微鏡法(AFM)ベースのナノスケール放電加工(ナノEDM)システムを作製した。大気環境AFMベースのナノEDMシステムと脱イオン水(DI水)環境AFMベースのナノEDMシステムを実現した。このシステムを利用して,40μmのステンレス鋼シートで,電気化学的チップの先鋭化やワイヤ切断処理を実行した。伝導性AFMプローブを利用することで,高電圧と大電流を実現した。プローブのチップ半径は約40nmであった。AFMベースのナノEDMシステムによって大気とDI水環境でAFMベースナノEDMプロセスを実行する試料として,シリコンウエハを利用した。シリコンウエハ表面でナノスケール形態を得た。

シソーラス用語： *顕微鏡観察 ,  ウエハ【IC】 ,  ステンレス鋼 ,  脱イオン水 ,  *放電加工 ,  電気化学 ,  *微細加工 ,  *原子間力顕微鏡
準シソーラス用語： Siウエハ ,  シリコンウエハ ,  ナノスケール ,  プロセス ,  *原子間力顕微鏡法

分類 (2件)： 電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B) ,  特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子間力顕微鏡法 ,  ナノスケール ,  放電加工 ,  研究