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J-GLOBAL ID：201202261800150995   整理番号：12A1217019

自己整合二重および四重パターン形成配置原理

Self-Aligned Double and Quadruple Patterning Layout Principle

著者 (6件)： NAKAYAMA Koichi (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  KODAMA Chikaaki (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  KOTANI Toshiya (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  NOJIMA Shigeki (Toshiba Corp. R&D Center, Yokohama, JPN) ,  MIMOTOGI Shoji (Toshiba Corp. R&D Center, Yokohama, JPN) ,  MIYAMOTO Shinji (Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8327  ページ： 83270V.1-83270V.9  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 自己整合二重パターン形成(SADP)は20nmノード技術の最も妥当なプロセスの一つである。SADP配置の新しい直感的原理を明確にした。この原理は互換性のある異なる二つの色で塗装された基本パターンを用いる。SADPプロセスを概説し,二色写像によりSADP配置原理を明確にした。さらに,自己整合四重パターン形成(SAQP)プロセスを概説し,SAQPの三色写像を提示した。提案方法により直観的にSADPの配置を設計し,提案の概念をSADPの格子経路指定に適用した。

シソーラス用語： 原理 ,  自己整合 ,  *回路パターン形成 ,  *超小形回路技術 ,  超小形回路 ,  *半導体プロセス
準シソーラス用語： *四重パターニング ,  配置原理 ,  *二重パターニング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 自己整合 ,  パターン形成 ,  原理