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J-GLOBAL ID：201202264286533510   整理番号：12A0885041

光でパターニングしたDNAブラシを用いたリフトオフ法の開発

著者 (8件)： 鈴木康修 (北大 大学院) ,  江口明日美 (北大 大学院) ,  松尾保孝 (北大 電子科研) ,  松尾保孝 (JST-CREST) ,  新倉謙一 (北大 電子科研) ,  新倉謙一 (JST-CREST) ,  居城邦治 (北大 電子科研) ,  居城邦治 (JST-CREST)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 61  号： 1  ページ： ROMBUNNO.2J21  発行年： 2012年05月15日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *微細加工 ,...
準シソーラス用語： リフトオフ法 ,...

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分類 (2件)： 核酸一般  (EB04010U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： パターニング ,  DNA ,  ブラシ ,  リフトオフ法 ,  開発