文献

J-GLOBAL ID：201202265334624707   整理番号：12A0783982

超薄アモルファスシリコン膜のSiナノドット形成へのKrFパルスエキシマレーザ結晶化の動的過程

Dynamical process of KrF pulsed excimer laser crystallization of ultrathin amorphous silicon films to form Si nano-dots

著者 (9件)： CHEN Guran (National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...) ,  XU Jun (National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...) ,  XU Wei (National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...) ,  SUN Hongcheng (National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...) ,  MU Weiwei (National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...) ,  SUN Shenghua (National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...) ,  MA Zhongyuan (National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...) ,  HUANG Xinfan (National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...) ,  CHEN Kunji (National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 111  号： 9  ページ： 094320-094320-5  発行年： 2012年05月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Tersoffポテンシャルに基づいた分子動力学(MD)シミュレーションで超薄アモルファスシリコン(a-Si)膜のレーザ誘起結晶化を調べた。結晶化過程へのレーザフルエンスとa-Si膜厚みの影響を議論した。MDシミュレーション結果の説明のために古典的核形成理論を用いた。Siナノドット形成へのa-Si膜厚みの制約的効果をこれに従い評価した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *超薄膜 ,  *アモルファスシリコン ,  *ナノ構造 ,  *エキシマレーザ ,  *結晶化 ,  ポテンシャル ,  フルエンス ,  厚み ,  計算機シミュレーション ,  核形成 ,  パルスレーザ照射
準シソーラス用語： *KrFエキシマレーザ ,  Tersoffポテンシャル ,  *ナノドット ,  分子動力学シミュレーション

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (7件)： アモルファス ,  シリコン膜 ,  Si ,  ナノドット ,  エキシマレーザ ,  結晶化 ,  過程