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J-GLOBAL ID：201202266179811119   整理番号：12A0328702

真空電子デバイス用のUV-LIGAと埋込み高分子モノフィラメントを使用した微細電子ビームトンネルの微小加工

Microfabrication of fine electron beam tunnels using UV-LIGA and embedded polymer monofilaments for vacuum electron devices

著者 (4件)： JOYE Colin D (Naval Res. Lab., Washington, DC, USA) ,  CALAME Jeffrey P (Naval Res. Lab., Washington, DC, USA) ,  NGUYEN Khanh T (Beam-Wave Res., Inc., MD, USA) ,  GARVEN Morag (SAIC, VA, USA)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 22  号： 1  ページ： 015010,1-10  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 遅波真空電子(VE)増幅器や発振器では,真っ直ぐで正確な形状の,ビームトンネルと呼ぶ空洞チャネルが必要とされる。本稿では,任意断面形状の高分子モノフィラメントとSU-8フォトレジストの紫外線フォトリソグラフィー(UV-LIGA)を使った微細電子ビームトンネルの微小加工について報告した。このプロセスにより3Dモールドを作り,その周りに銅の電鋳を行い,電磁回路に沿って任意の長さとサイズの高品質ビームトンネルを製作した。この方法により単一UV-LIGAプロセスでミリ波やTHz真空電子デバイスに必要な円形ビームトンネルが製作できた。このプロセスは高アスペクト比の非常に小型で真っ直ぐなチャネルが必要なマイクロフルイディクスなどに適用可能である。

シソーラス用語： 遅波回路 ,  発振器 ,  増幅器 ,  マイクロマシニング ,  X線リソグラフィー ,  埋込み【挿入】 ,  高分子 ,  繊維 ,  フィラメント ,  *電子ビーム ,  電鋳 ,  チャネル ,  微細加工 ,  固体素子 ,  フォトレジスト ,  リソグラフィー ,  *フルイディクス ,  マイクロフルイディクス
準シソーラス用語： LIGAプロセス ,  SU-8 ,  *モノフィラメント ,  紫外線リソグラフィー ,  電子デバイス ,  微小加工

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  流体式制御機器  (IC02030J)

タイトルに関連する用語 (10件)： 真空 ,  電子デバイス ,  LIGA ,  埋込み ,  高分子 ,  モノフィラメント ,  微細 ,  電子ビーム ,  トンネル ,  微小