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J-GLOBAL ID：201202266847189743   整理番号：12A1421078

プラズマ中のヘキサメチルジシロキサン解離過程の比較

Comparison of Hexamethyldisiloxane Dissociation Processes in Plasma

著者 (2件)： JAUBERTEAU J. L. (SPCTS, CNRS,, Limoges, FRA) ,  JAUBERTEAU I. (SPCTS, CNRS,, Limoges, FRA)
資料名： Journal of Physical Chemistry A  (Journal of Physical Chemistry A)
巻： 116  号： 35  ページ： 8840-8850  発行年： 2012年09月06日 
JST資料番号： C0334B  ISSN： 1089-5639  CODEN： JPCAFH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *シロキサン誘導体 ,  シロキサン ,  *解離 ,  吸収スペクトル ,  質量スペクトル ,  反応経路 ,  断面積 ,  アルゴン ,  真空紫外線 ,  化学結合 ,  *プラズマ ,  マイクロ波放電
準シソーラス用語： C-Si結合 ,  Si-O結合 ,  *マイクロ波プラズマ ,  衝突断面積 ,  反応断面積

分類 (4件)： 有機けい素化合物  (CF08030C) ,  分子間相互作用  (BH07020P) ,  無触媒気相反応  (CB06050Y) ,  分解反応  (CF02080P)

物質索引 (5件)： トリメチルシラン ,  メチルシラン ,  ヘキサメチルジシロキサン ,  ペンタメチルジシロキサン ,  1,1,2,2-テトラメチルジシラン-1-オール

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズマ ,  ヘキサメチルジシロキサン ,  解離 ,  過程