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J-GLOBAL ID：201202266868620509   整理番号：12A1439354

デュアルトーンフォトリソグラフィーの進展に寄与するイオン化カルバメート光酸/光塩基発生剤

Ionic Carbamate Photoacid/Photobase Generators for the Advancement of Dual Tone Photolithography

著者 (6件)： HALLETT-TAPLEY Geniece L. (Univ. Ottawa, ON, CAN) ,  WEE Tse-Luen (Univ. Ottawa, ON, CAN) ,  ELDO Joby (SAFC Hitech, MA, USA) ,  JACKSON Edward A. (Intel Corp., OR, USA) ,  BLACKWELL James M. (Intel Corp., OR, USA) ,  SCAIANO Juan C. (Univ. Ottawa, ON, CAN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8325  ページ： 83251T.1-83251T.10  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 193nm励起光源を用いるリソグラフィーパターン形成に関する研究努力がλ/2波長に近いまでのピッチ分割限界に達した。最近は,ダブルパターニング技術が193nm技術の延長線上に出現して,1回露光のなかで2線パターン形成が可能になった。そうした中で,1成分カルバメート光酸/光塩基発生剤(PAG/PBG)によるダブルパターニングの長所が検討されている。軽度な露光線量でスルホン酸が生成し,比較的高い線量では光化学転移が誘発されてPBGが活性化する。中間的な最適露光条件下では,デュアルトーン挙動の誘起に必要なエネルギーにより,アミン失活性剤とカルバミド酸塩の添加濃度の調整が可能になる。所要のピッチ区画を達成する能力を表す指標となる値,すなわち,光酸発生(つまり膜溶解)の初期徴候となるレジストに必要なエネルギーE₀と光塩基活性化に必要なエネルギーE_nが偏光解析法を用いて決定される。

シソーラス用語： マイクロマシニング ,  *フォトリソグラフィー ,  *回路パターン形成 ,  カルバミド酸エステル ,  光酸発生剤 ,  光酸化 ,  光塩基発生剤 ,  *光重合 ,  光開始剤 ,  露光 ,  ナノメータ加工
準シソーラス用語： カルバマート ,  ダブルパターニング

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 進展 ,  イオン化 ,  カルバメート ,  酸 ,  光塩基発生剤