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J-GLOBAL ID：201202266924047884   整理番号：12A1311542

DC反応性マグネトロンスパッタリングにより作製された酸化アルミニウム膜の構造及び特性に及ぼす負基板バイアス電圧の効果

Effects of negative substrate bias voltage on the structure and properties of aluminum oxide films prepared by DC reactive magnetron sputtering

著者 (6件)： TANG Xiufeng (State Key Lab. of Solidification Processing, School of Materials Sci. and Engineering, Northwestern Polytechnical ...) ,  LUO Fa (State Key Lab. of Solidification Processing, School of Materials Sci. and Engineering, Northwestern Polytechnical ...) ,  OU Fang (Dep. of Electrical Engineering and Computer Sci., Northwestern Univ., Evanston, IL 60208, USA) ,  ZHOU Wancheng (State Key Lab. of Solidification Processing, School of Materials Sci. and Engineering, Northwestern Polytechnical ...) ,  ZHU Dongmei (State Key Lab. of Solidification Processing, School of Materials Sci. and Engineering, Northwestern Polytechnical ...) ,  HUANG Zhibin (State Key Lab. of Solidification Processing, School of Materials Sci. and Engineering, Northwestern Polytechnical ...)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 259  ページ： 448-453  発行年： 2012年10月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化アルミニウム薄膜(Al_xO_y)をNi系超合金基板上に,Ar及びO₂ガス環境中でAlターゲットを用いるDC反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積させた。然る後,堆積後熱処理を空気雰囲気中,500°Cで1時間行い,さらに,熱処理後の試料の幾つかは応用環境をシミュレートするために800°Cで1時間加熱された。堆積直後,熱処理および加熱された膜の構造と特性,堆積速度,元素組成,表面形態,微細構造,光透過率および微小硬度に及ぼす負基板バイアス電圧(V_b)の効果を調べた。負V_b(0v,-20V,-30Vおよび-40V)の増加とともに,堆積速度が鋭く減少し,堆積直後膜のO/Al比も同様に減少することが見出された。しかし熱処理された膜に対しては,O/Al比は増加傾向を示した。すべての結晶化が負に増加するバイアス電圧とともに弱くなった。負に増加するバイアス電圧が-40Vに達するプロセスの中で堆積直後膜の結晶粒微細化と熱処理膜の緩く割れ目の生じた表面が見出された。すべての熱処理膜が堆積直後膜より高い透過率と低い微小硬度を示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化アルミニウム ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *セラミック被覆 ,  *ニッケル合金 ,  *超合金 ,  バイアス ,  微小硬さ ,  透過率 ,  光学定数
準シソーラス用語： *反応性マグネトロンスパッタリング ,  基板バイアス

分類 (3件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (6件)： DC ,  反応性マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  酸化 ,  アルミニウム膜 ,  基板バイアス