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J-GLOBAL ID：201202267942290709   整理番号：12A1311594

高温応用のための高放射率ニッケルフォトニック結晶上へのSiC薄膜のマグネトロンスパッタリング

Magnetron sputtering SiC films on nickel photonic crystals with high emissivity for high temperature applications

著者 (7件)： LI Zhenyu (Center for Composite Materials and Structure, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  YANG Lili (School of Transportation Sci. and Engineering, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150090, CHN) ,  GE Dengteng (Center for Composite Materials and Structure, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  DING Yanbo (School of Chemical Engineering and Technol., Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  PAN Lei (Center for Composite Materials and Structure, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  ZHAO Jiupeng (School of Chemical Engineering and Technol., Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  LI Yao (Center for Composite Materials and Structure, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 259  ページ： 811-815  発行年： 2012年10月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高放射率被膜は多くの高温応用において広く利用されている。ここでは放射性能を向上するためのNiフォトニック結晶(PC)上の新しい構造のマグネトロンスパッタリング作製炭化ケイ素(SiC)薄膜を報告した。SiC被膜はNi PCの骨格へのその優先成長によって二次元パターン化構造を有することが明らかになった。分光放射率の結果からSiCの周期構造と表面多孔性構造が,より高度な粗面,より低い反射率とより低い熱的揺らぎの大きさの故に,被膜の分光放射率を向上していることがわかった。この方法は熱起電力(TPV)放射体,焦電及びその他のフォトニクス応用のための一連の高放射率被膜と高度秩序化金属-セラミクス複合材料構造の作製に有望な可能性を有する。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *結晶 ,  *分光放射率 ,  *炭化ケイ素 ,  *ニッケル ,  周期構造 ,  フォトニックバンドギャップ ,  マグネトロンスパッタリング ,  *セラミック被覆 ,  セラミック ,  *複合材料 ,  パターン形成 ,  熱起電力 ,  赤外スペクトル ,  *フォトニック結晶

分類 (2件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  赤外・遠赤外領域の分光法と分光計  (BD07042H)

タイトルに関連する用語 (7件)： 応用 ,  放射率 ,  ニッケル ,  フォトニック結晶 ,  SiC ,  薄膜 ,  マグネトロンスパッタリング