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J-GLOBAL ID：201202268232367512   整理番号：12A1162069

アニオン高分子電解質添加が水晶化学研磨のためのセリア分散挙動に及ぼす影響

Influence of anionic polyelectrolyte addition on ceria dispersion behavior for quartz chemical mechanical polishing

著者 (5件)： KIM Hyuk-min (Dep. of Bio-Nano Technol., Hanyang Univ., Ansan 426-791, KOR) ,  PRASANNA VENKATESH R. (Dep. of Materials Engineering, Hanyang Univ., Ansan 426-791, KOR) ,  KWON Tae-young (Dep. of Materials Engineering, Hanyang Univ., Ansan 426-791, KOR) ,  PARK Jin-goo (Dep. of Bio-Nano Technol., Hanyang Univ., Ansan 426-791, KOR) ,  PARK Jin-goo (Dep. of Materials Engineering, Hanyang Univ., Ansan 426-791, KOR)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 411  ページ： 122-128  発行年： 2012年10月05日 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本検討では,水晶化学研磨(CMP)応用のために,アニオン界面活性剤,ポリ(アクリル酸-coマレイン酸)ナトリウム塩がセリア(CeO₂)スラリー安定性に及ぼす影響について検討した。研磨プロセスのための最適条件を同定するために,分散剤濃度(0.1,1,3,5wt%)の関数として,pH,粘度,および安定挙動を含むセリアスラリーの特性をキャラクタリゼーションした。分散剤の添加により,セリアスラリーのpHは水晶CMP加工に匹敵するアルカリ域まで増加し,一方,5wt%で粘度は急速に増加した。安定性の結果は,スラリーは3wt%でのみ安定であり,ところが,他の分散剤濃度では,粒子は結局,急速に凝集して沈降する。種々の分散剤濃度でのセリアスラリー挙動を理解するために,セリアの吸着と静電気挙動を測定した。低濃度では,分散剤はvan der Waals引力を克服するほど十分には粒子を保護しないが,一方,高濃度では橋掛けフロキュレーションのために粒子の凝集が起こる。最適濃度では,分散剤により,引力を克服するのに十分な立体妨害が得られる。さらに,分散剤中のナトリウムイオンの存在もセリア粒子の沈降挙動に強く影響する。研磨試験から,最適スラリーによる,望ましい除去速度や表面品質が得られることが分った。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *化学研磨 ,  *高分子電解質 ,  *セリウム化合物 ,  *酸化物 ,  スラリー ,  安定性 ,  濃度依存性 ,  最適条件 ,  分散剤 ,  pH依存性 ,  依存性 ,  吸着 ,  静電気 ,  van der Waals力 ,  ポリアクリル酸 ,  脂肪族カルボン酸 ,  共重合体 ,  分散【dispersion】 ,  凝集 ,  沈降 ,  フロキュレーション ,  オレフィン化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  ジカルボン酸 ,  *化学機械研磨
準シソーラス用語： *CMP【化学研磨】 ,  *セリア ,  粘度依存性

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  その他の表面処理  (WC08070F)

物質索引 (1件)： マレイン酸

タイトルに関連する用語 (6件)： アニオン ,  高分子電解質 ,  水晶 ,  化学研磨 ,  セリア ,  挙動