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J-GLOBAL ID：201202268331922404   整理番号：12A0584401

Siピッチ格子とAr⁺イオンビームの相互作用の巨視的パラメータ

Macroscopic parameters of the interaction of an Ar⁺ ion beam with a Si pitch grating

著者 (6件)： BIZYUKOV Ivan (Karazin Kharkiv National Univ., Fac. of Physics and Technologies, 31 Kurchatov Ave., Kharkiv 61108, UKR) ,  MUTZKE Andreas (Max-Planck-Institut fuer Plasmaphysik, EURATOM Assoc., Wendelsteinstr. 1, 17491 Greifswald, DEU) ,  MAYER Matej (Max-Planck-Institut fuer Plasmaphysik, EURATOM Assoc., Boltzmannstr. 2, 85748 Garching, DEU) ,  LANGHUTH Hagen (Max-Planck-Institut fuer Plasmaphysik, EURATOM Assoc., Boltzmannstr. 2, 85748 Garching, DEU) ,  KRIEGER Karl (Max-Planck-Institut fuer Plasmaphysik, EURATOM Assoc., Boltzmannstr. 2, 85748 Garching, DEU) ,  SCHNEIDER Ralf (Inst. of Physics, Ernst-Moritz-Arndt Univ., Felix-Hausdorff-Str. 6, 17489 Greifswald, DEU)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 278  ページ： 4-7  発行年： 2012年05月01日 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *イオン照射 ,  アルゴンビーム ,  *回折格子 ,  相互作用 ,  表面構造 ,  *スパッタリング ,  ケイ素 ,  パラメータ
準シソーラス用語： イオン-固体相互作用

分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  ピッチ ,  格子 ,  イオンビーム ,  相互作用 ,  パラメータ