文献

J-GLOBAL ID：201202268401642935   整理番号：12A0479933

酸化剤としてオキソンを使用したルテニウムの化学機械研磨

Chemical Mechanical Planarization of Ruthenium with Oxone as Oxidizer

著者 (4件)： VICTORIA S.Noyel (Indian Inst. Technol.-Madras, Chennai, IND) ,  JEBARAJ Josiah (Clarkson Univ., New York, USA) ,  SUNI Ian Ivar (Clarkson Univ., New York, USA) ,  RAMANATHAN S. (Indian Inst. Technol.-Madras, Chennai, IND)
資料名： Electrochemical and Solid-State Letters  (Electrochemical and Solid-State Letters)
巻： 15  号： 3  ページ： H55-H58  発行年： 2012年 
JST資料番号： W1290A  ISSN： 1099-0062  CODEN： ESLEF6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,酸化剤としてのオキソンを使用したルテニウム(Ru)の化学機械研磨(CMP)について系統的調べた。pH,酸化剤濃度,研磨剤のローディング,研磨圧などの関数としてのRu除去速度を調べた。動電位分極研究についても行って,化学的溶解の役割についても調べた。CMP実験によって,pH領域1~6においてオキソンがRu除去速度を向上させるが,スラリーの安定性はpH3およびそれより高い場合は貧弱であることが示された。Ru除去速度はオキソンおよび研磨剤の濃度の増大に従って増大した。

シソーラス用語： *ルテニウム ,  *カリウム化合物 ,  *ペルオキソ硫酸塩 ,  酸化剤 ,  *化学研磨 ,  濃度依存性 ,  研磨剤 ,  装入 ,  圧力効果 ,  溶解 ,  pH依存性 ,  スラリー ,  安定性 ,  *化学機械研磨
準シソーラス用語： *オキソン ,  除去速度 ,  動電位分極

分類 (3件)： その他の表面処理  (WC08070F) ,  電気化学一般  (CB07010N) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸化剤 ,  オキソン ,  ルテニウム ,  化学機械研磨