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J-GLOBAL ID：201202269397542625   整理番号：12A0885556

分子不斉なロタキサンモノマーから合成したフェニルアセチレン系ポリマーの構造特性

著者 (5件)： 塩崎七央 (東京工大 大学院) ,  石割文崇 (東京工大 大学院) ,  中薗和子 (東京工大 大学院) ,  小山靖人 (東京工大 大学院) ,  高田十志和 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 61  号： 1  ページ： ROMBUNNO.3C15  発行年： 2012年05月15日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリフェニルアセチレン ,  配位重合 ,  ロジウム触媒 ,  共重合 ,  *共重合体 ,  *ロタキサン ,  光学活性高分子 ,  側鎖 ,  円偏光二色スペクトル ,  旋光分散 ,  不斉反応 ,  *ヘリックス構造 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  スイッチ効果 ,  光学異性 ,  脂肪族カルボン酸 ,  脂肪族フッ素化合物 ,  不斉増幅 ,  面性キラリティー
準シソーラス用語： 面不斉

分類 (3件)： 高分子の立体構造  (CG02031G) ,  共重合  (CG04030D) ,  シクロファン,カテナン,ロタキサン,カリキサレン,ノット(三つ葉結び目)  (CF06120M)

物質索引 (4件)： トリフルオロ酢酸 ,  3-ブロモ-5-エチニル安息香酸4-[[メチル(3,5-ジメチルベンジル)アミノ]メチル]ベンジル ,  N-[3,4-[1,2-フェニレンビス(オキシエチレンオキシエチレンオキシエチレンオキシ)]フェニル]ベンズアミド ,  5-エチニルイソフタル酸ジメチル

タイトルに関連する用語 (4件)： 分子 ,  フェニルアセチレン ,  ポリマー ,  構造特性