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J-GLOBAL ID：201202271124625573   整理番号：12A1217289

Nb_xO/Wの多層膜の深さ方向プロファイリング:一次イオンビーム種の影響(O²⁺,Ar⁺およびCs⁺)

Depth profiling of NbxO/W multilayers: effect of primary ion beam species (O2⁺, Ar⁺ and Cs⁺)

著者 (4件)： HE A. (Univ. Alberta, Edmonton, CAN) ,  XU S. (Univ. Alberta, Edmonton, CAN) ,  FOROUGHI-ABARI A. (Univ. Alberta, Edmonton, CAN) ,  KARPUZOV D. (Univ. Alberta, Edmonton, CAN)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 44  号： 8  ページ： 934-937  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノスケール多層膜のNb_xO/Wサンプルからの,金属と酸素の二次イオンの深さ方向プロファイルに対する,スパッタビームの影響を示す実験結果について報告する。異なるエネルギーのO²⁺,Cs⁺またはAr⁺ビームを用いて,深さ方向プロファイリングを行った。得られた深さ方向プロファイルは,O²⁺またはAr⁺ビームでのスパッタリングは軽元素分布を明らかにできるが,Cs⁺でのスパッタリングは低エネルギーを適用した場合には,正しく示すことはできないことを明らかにした。深さ方向プロファイリング実験は,スパッタ源のパラメータが2次イオンの分布に大きく影響する可能性があることを示した。軽および重種を含むナノスケール多層膜ターゲットに関しては,スパッタイオンビームの種とエネルギーの選択に注意することを提案する。

シソーラス用語： *酸化ニオブ ,  *タングステン ,  *多層膜 ,  *深さプロフィル ,  *イオンビームスパッタリング ,  酸素 ,  アルゴン ,  セシウム ,  ナノ構造

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 多層膜 ,  深さ方向 ,  プロファイリング ,  イオンビーム