文献

J-GLOBAL ID：201202271858048851   整理番号：12A1754196

PおよびN型Bi₂Te₃膜の熱電特性に対するスパッタリング処理パラメータの効果

Effect of Sputtering Process Parameters on the Thermoelectric Properties of P and N-type Bi₂Te₃ Films

著者 (10件)： ARINA (Republic Polytechnic, SGP) ,  CHOW Hui Fan Shermin (Republic Polytechnic, SGP) ,  BARI Shamira Banu Abdul (Republic Polytechnic, SGP) ,  LIN Chia Ai (Republic Polytechnic, SGP) ,  KO San Ye (Republic Polytechnic, SGP) ,  KHONG Samuel (Republic Polytechnic, SGP) ,  SIM Jonathan (Republic Polytechnic, SGP) ,  EZHILVALAVAN S. (Republic Polytechnic, SGP) ,  MA Jan (Nanyang Technological Univ., SGP) ,  HOON Heng Hui (Nanyang Technological Univ., SGP)
資料名： Diffusion and Defect Data Part B. Solid State Phenomena  (Diffusion and Defect Data Part B. Solid State Phenomena)
巻： 185  ページ： 94-98  発行年： 2012年 
JST資料番号： T0583A  ISSN： 1012-0394  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (3件)： 熱電特性 ,  スパッタリング ,  パラメータ