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J-GLOBAL ID：201202272260504212   整理番号：12A1092699

プラズマ処理によるPE表面へのPEGDAの固定

Iommobilization of PEGDA on a PE Surface by Plasma Treatment

著者 (3件)： ENOMOTO Ichiro (Tokyo Metropolitan Industrial Technol. Res. Inst., Tokyo, JPN) ,  IIYAMA Kei (NIPPO ELECTRONICS CO., LTD, Kanagawa, JPN) ,  MISHIMA Kazuya (NIPPO ELECTRONICS CO., LTD, Kanagawa, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 25  号： 4  ページ： 507-510  発行年： 2012年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリエチレン膜の接着特性,濡れ及び染料親和性を増進するため,プラズマ処理によるポリエチレン膜の表面への親水性官能基の付加を研究した。線状低密度ポリエチレン(LLDPE)及び高密度ポリエチレン(HDPE)膜を二つの異なるプラズマ処理を使用して加工し,ジアクリル酸ポリエチレングリコール(PEGDA)によるグラフト重合を行った。PE膜へのPEGDAの固定をFourier変換赤外分光法(FT-IR)及びX線光電子分光法(XPS)により評価した。加水分解及びヒドロキシル基導入の結果として,酸化物ピークにおける増加が観察された。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *固定 ,  親水性 ,  FTIR分光法 ,  X線光電子分光法 ,  プラズマ処理 ,  *LLDPE ,  *高密度ポリエチレン ,  グラフト共重合 ,  加水分解 ,  *オレフィン化合物 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  高分子と低分子との反応  (CG03020L)

物質索引 (1件)： エチレングリコールジアクリラート

引用文献 (9件)：

• 1. I. Enomoto, K. Mishima, T. Kobayashi and S. Soeda, J. Photopolym. Sci. Technol. 23 (2010) 545.
• 2. M. Mori, Y. Uyama and Y. Ikada, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem. 32 (1994) 1683.
• 3. J. M. Yang, P.Y. Huang, M. C. Yang and W. Wang, J. Appl. Polym. Sci. 65 (1997) 365.
• 4. K. Kaji, Y. Abe, M. Murai, N. Nishioka and K. Kosai, I Appl. Polym. Sci. 47 (1993) 1427.
• 5. A. B. Brennan, J. J. Arnold and M. P. Zamopa, J. Adhesion Sci. Technol. 9 (1995) 1031.

タイトルに関連する用語 (3件)： プラズマ処理 ,  PE ,  PEGDA