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J-GLOBAL ID：201202273161500368   整理番号：12A1403762

インターデジテート型多孔性配位高分子が示す吸着構造転移現象のモデル化

著者 (10件)： 沼口遼平 (京大 工) ,  山本愛 (京大 工) ,  杉山隼人 (京大 工) ,  田中秀樹 (京大 工) ,  渡邉哲 (京大 工) ,  福島知宏 (京大 工) ,  土方優 (京大 工) ,  堀毛悟史 (京大 工) ,  北川進 (京大 工) ,  宮原稔 (京大 工)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会秋季大会(CD-ROM))
巻： 44th  ページ： ROMBUNNO.F205  発行年： 2012年08月19日 
JST資料番号： L0827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *吸着 ,  構造相転移 ,  多孔性 ,  モデリング ,  熱力学 ,  吸着等温式 ,  分子シミュレーション ,  *配位重合体【樹脂】
準シソーラス用語： *配位重合体

分類 (1件)： 吸着,イオン交換  (XD02060I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 多孔性配位高分子 ,  吸着構造 ,  現象 ,  モデル化