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J-GLOBAL ID：201202274564559857   整理番号：12A0653001

ゾル-ゲル合成したZrO₂/Si薄膜の熱処理下での相と構造の発達

Phase and structural evolution of sol-gel synthesized ZrO₂/Si thin films under heat treatment

著者 (4件)： HWANG Soo Min (Sungkyunkwan Univ., School of Advanced Materials Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  PARK Geun Chul (Sungkyunkwan Univ., School of Advanced Materials Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  LIM Jun Hyung (Sungkyunkwan Univ., School of Advanced Materials Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  JOO Jinho (Sungkyunkwan Univ., School of Advanced Materials Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR)
資料名： Journal of Materials Science  (Journal of Materials Science)
巻： 47  号： 13  ページ： 5216-5221  発行年： 2012年07月 
JST資料番号： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ZrO₂/Si薄膜をゾル-ゲル法で作製し,熱処理によるゾルからゲル,Zr酸化物への化学状態変化と構造発達を調べた。前駆体ゾルはSi(100)基板にZr-アセチルアセトナート(Zr-acac)前駆体を用い,スピンコートし,乾燥し,大気中300~700°Cで熱処理して合成した。ゾル-ゲル由来の層の熱処理温度の増加でZr-acacはZr酢酸塩に分解して非晶質のZrO₂相が生成し,正方晶相への結晶化が起こった。更に,ZrO₂層はよりち密となり,ZrO₂とSiとの界面層は厚くなったが,表面形態はほぼ影響されず,平方根平均粗さ値<4.5Åの平滑性を維持した。Copyright 2012 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化ジルコニウム ,  基板 ,  *ケイ素 ,  *ゾル-ゲル法 ,  ジルコニウム錯体 ,  ジケトン ,  配位子 ,  エーテル ,  脂肪族アルコール ,  アミノアルコール ,  *スピンコーティング ,  焼なまし ,  *熱処理 ,  *結晶化 ,  緻密化 ,  平滑度 ,  相 ,  発展 ,  酸化物 ,  薄膜 ,  脂肪族ケトン ,  脂肪族アミン ,  第一アミン
準シソーラス用語： アニーリング ,  *構造発達 ,  *酸化物薄膜 ,  平滑性

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I)

物質索引 (3件)： 2-メトキシエタノール ,  アセチルアセトン ,  モノエタノールアミン

タイトルに関連する用語 (6件)： ゾル-ゲル合成 ,  ZrO2 ,  Si薄膜 ,  熱処理 ,  相 ,  発達