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J-GLOBAL ID：201202274630526779   整理番号：12A1244764

プロトン伝導性アモルファス酸化物薄膜のキャラクタリゼーション

著者 (5件)： FAN Ye (北大 大学院) ,  YE Ke (北大 大学院) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院) ,  永田晋二 (東北大 金属材料研)
資料名： 東北大学金属材料研究所金属ガラス総合研究センター共同利用研究報告書
巻： 2010  ページ： 50-51  発行年： 2011年06月 
JST資料番号： L3700A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アノード酸化によりZrO₂-WO₃系酸化物膜を作製し,構造とプロトン伝導挙動を調べた。Zr/W比が5/5,4/6および3/7のZr-Wスパッタ薄膜をリン酸塩水溶液中でアノード酸化させることでa-Zr_1-mW_mO_xを得た。酸化物断面をSEMおよび透過電子顕微鏡で観察し構造評価を行った。AuあるいはPt上部電極を蒸着して金属/酸化物/金属構造を作製し,イオン電導率をACインピーダンス法で測定した。平坦な表面を持つ緻密な酸化膜の形成が確認された。酸化膜は,ZrO₂の外層とZr-W系複合酸化物内層の2層構造であることを確認した。また,膜中にリン酸種が被膜内層まで存在していることを確認した。260°C以下で非常に高いプロトン伝導性が得られた。

シソーラス用語： *電気伝導率 ,  酸化ジルコニウム ,  酸化タングステン ,  アノード酸化 ,  *酸化膜 ,  *非晶質 ,  マグネトロンスパッタリング ,  多層膜 ,  金 ,  白金 ,  *酸化物 ,  *薄膜 ,  基板 ,  スパッタ蒸着 ,  MIM構造 ,  *イオン伝導
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  *プロトン伝導性 ,  *酸化物薄膜 ,  二層構造

分類 (2件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K) ,  金属-絶縁体-金属構造  (BM03087F)

タイトルに関連する用語 (4件)： プロトン伝導性 ,  アモルファス ,  酸化物薄膜 ,  キャラクタリゼーション