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J-GLOBAL ID：201202276556456880   整理番号：12A1770241

Joule自己加熱下における表面マイクロマシン加工ポリシリコンレジスタのTCR符号変化

TCR Sign Variation of Surface Micromachined Polysilicon Resistor under Joule Self-Heating

著者 (5件)： MA Hongyu (China Univ. of Mining and Technol., Xuzhou, CHN) ,  WANG Lei (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  SONG Jing (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  ZHANG Weidong (China Univ. of Mining and Technol., Xuzhou, CHN) ,  DING Enjie (China Univ. of Mining and Technol., Xuzhou, CHN)
資料名： Integrated Ferroelectrics  (Integrated Ferroelectrics)
巻： 136  ページ： 99-105  発行年： 2012年 
JST資料番号： W0539A  ISSN： 1058-4587  CODEN： IFEREU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： 自己加熱 ,  マイクロマシン加工 ,  ポリシリコン ,  レジスタ ,  TCR ,  符号