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J-GLOBAL ID：201202276613707231   整理番号：12A1743697

DCマグネトロンスパッタリングシステムにおける堆積基板表面の平滑化設計とプロセスのエミュレーション

Smoother Substrate Deposition Designs and Process Emulations of DC Magnetron Sputters

著者 (3件)： LIU Cheng-Tsung (National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN) ,  CHANG Chih-Wen (National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN) ,  HWANG Chang-Chou (Feng Chia Univ., Taichung, TWN)
資料名： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Transactions on Magnetics)
巻： 48  号： 11  ページ： 4432-4435  発行年： 2012年11月 
JST資料番号： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 既存のマグネトロンスパッタリングシステムにおいて,堆積される基板表面をより平滑にするための電気的機械的改善法を検討した。真空室内の磁界および電界を適切に制御すると,ターゲット表面からスパッタされる原子の飛行軌跡をより広く拡散させることが可能となり,さらにプラズマ密度を高めることにより,プラズマ内におけるスパッタ原子とアルゴン原子の衝突頻度を高め,基板上に堆積するターゲット原子の分布をより均等化させることができる。この手法の有効性を検証するため,種々の三次元磁界および電界に対する原子のスパッタリング状態を検討できるエミュレーションシステムを開発した。本システムを用いれば,堆積基板の表面をより平滑化するための改善内容を体系的に検討することができる。

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタリング装置 ,  *スパッタ蒸着 ,  *プリント基板 ,  平滑化 ,  表面性状 ,  エミュレーション ,  原子衝突
準シソーラス用語： 電場依存性 ,  磁場依存性

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： DCマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  基板表面 ,  平滑化 ,  設計 ,  プロセス ,  エミュレーション