FTO基質上Co-Cu合金薄膜の電着の研究

文献

J-GLOBAL ID：201202277079215081 整理番号：12A0304960

A study of the electrodeposition of Co-Cu alloys thin films on FTO substrate

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巻： 18 号： 1-2 ページ： 223-229 発行年： 2012年01月
JST資料番号： W1953A ISSN： 0947-7047 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

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