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J-GLOBAL ID：201202277516371381   整理番号：12A1180629

レーザー学会産業賞を受賞して-フォトマスク検査装置MATRICS X700用213nm光源の開発-

著者 (3件)： 佐久間純 (レーザーテック) ,  森泉幸一 (レーザーテック) ,  楠瀬治彦 (レーザーテック)
資料名： レーザー研究  (レーザー学会誌)
巻： 40  号： 8  ページ： 624-626  発行年： 2012年08月15日 
JST資料番号： X0335A  ISSN： 0387-0200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： フォトマスク検査装置MAIRICS X700シリーズを開発し,レーザー学会産業賞を受賞した。この装置は,メモリー,ロジック等の半導体回路の原版となるフォトマスク(レチクル)上の欠陥や異物を光学的検査により検出する装置である。本論文では,213nmの光源を中心とした製品の開発の背景について紹介した。フォトマスク検査装置の光源波長,QCW 213nm光源について解説した。真の産業用の光源として,213nmのDUV光源を開発できた。半導体産業に寄与できる。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *試験装置 ,  *光源 ,  極端紫外線 ,  半導体工業 ,  レチクル ,  紫外レーザ ,  記憶装置 ,  論理素子
準シソーラス用語： DUV光源 ,  極端紫外線光源 ,  検査装置 ,  半導体産業

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (3件)：

• AKMANOV, A. G. JETP Lett. 1969, 10, 154
• SAKUMA, J. IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 2004, 10, 1244
• 戸田伸一郎. レーザー研究. 2011, 39, 637

タイトルに関連する用語 (6件)： レーザー ,  学会 ,  産業 ,  フォトマスク ,  検査装置 ,  開発