方向性光流動化リソグラフィー  アゾベンゼン材料の光流体運動によるミクロ/ナノ構造変化

LEE Seungwoo; KANG Hong Suk; PARK Jung-Ki

文献

J-GLOBAL ID：201202278004800570 整理番号：12A0819283

方向性光流動化リソグラフィーアゾベンゼン材料の光流体運動によるミクロ/ナノ構造変化

Directional Photofluidization Lithography: Micro/Nanostructural Evolution by Photofluidic Motions of Azobenzene Materials

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巻： 24 号： 16 ページ： 2069-2103 発行年： 2012年04月24日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

アゾベンゼン材料の光流動化は1990年代半ばから表面レリーフ格子(SRG)の作製に利用されてきたが,21世紀に入ってからミクロ/ナノ構造の作製への利用の可能性が検討されるようになってきた。アゾベンゼン材料は光を照射すると光異性化反応に起因して入射光の分極の方向に流動化する。これを利用すると等方性の熱流動化とは異なる異方性の流動化が可能となり,表面エネルギーを最小化する傾向に従うラインエッジ粗さ(LER)およびライン幅粗さ(LWR)などの顕著な改善が可能となる。

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光化学反応 , 固-気界面一般 , 固体デバイス製造技術一般

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方向性光流動化リソグラフィー アゾベンゼン材料の光流体運動によるミクロ/ナノ構造変化

方向性光流動化リソグラフィーアゾベンゼン材料の光流体運動によるミクロ/ナノ構造変化