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J-GLOBAL ID：201202281429706706   整理番号：12A0640385

貴ガスマトリックス中のアデニンラジカルの生成と戻り反応の温度依存性

著者 (3件)： 飯泉祥太 (東農工大 院BASE) ,  関根正彦 (東農工大 院BASE) ,  中田宗隆 (東農工大 院BASE)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 92nd  号： 2  ページ： 222  発行年： 2012年03月09日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 低温貴ガスマトリックス中に単離したアデニンへ紫外光を照射すると,水素原子が脱離してアデニンラジカルが生成することがわかった。また,アデニンラジカルは脱離した水素原子と暗闇中で結合してアデニンへ戻ることがわかった。異なる温度で測定した赤外吸収バンドの強度変化から,マトリックスの温度を上げるとアデニンラジカルからアデニンへの逆反応が速くなり,平衡がアデニン側に移動することがわかった。(著者抄録)

シソーラス用語： *ラジカル ,  *赤外スペクトル ,  *マトリックス【母体】 ,  *単離 ,  *脱離反応 ,  *光化学反応 ,  アルゴン ,  キセノン ,  ヨウ化セシウム ,  *紫外線照射 ,  水素 ,  原子 ,  反応速度 ,  窒素複素環化合物
準シソーラス用語： 水素原子 ,  *低温マトリックス

分類 (4件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  プリン,プテリジン  (CF07105E) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  有機化合物の赤外・Ramanスペクトル(分子)  (BH06033S)

物質索引 (1件)： アデニン

タイトルに関連する用語 (3件)： 貴ガス ,  マトリックス ,  温度依存性