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J-GLOBAL ID：201202284932635351   整理番号：12A0944091

ナノからミクロンまでの尺度のヘテロエピタキシャル被覆層のパターン形成

Patterning of Heteroepitaxial Overlayers from Nano to Micron Scales

著者 (10件)： ELDER K. R. (Oakland Univ., Michigan, USA) ,  ROSSI G. (Aalto Univ. School of Sci., Espoo, FIN) ,  KANERVA P. (Aalto Univ. School of Sci., Espoo, FIN) ,  SANCHES F. (Oakland Univ., Michigan, USA) ,  YING S-C. (Brown Univ., Rhode Island, USA) ,  GRANATO E. (Brown Univ., Rhode Island, USA) ,  GRANATO E. (Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, SP, BRA) ,  ACHIM C. V. (Aalto Univ. School of Sci., Espoo, FIN) ,  ALA-NISSILA T. (Aalto Univ. School of Sci., Espoo, FIN) ,  ALA-NISSILA T. (Brown Univ., Rhode Island, USA)
資料名： Physical Review Letters  (Physical Review Letters)
巻： 108  号： 22  ページ： 226102.1-226102.5  発行年： 2012年06月01日 
JST資料番号： H0070A  ISSN： 0031-9007  CODEN： PRLTAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 微細構造 ,  ナノ構造 ,  *被覆層 ,  ヘテロエピタクシー ,  *パターン形成 ,  超格子 ,  銅 ,  ルテニウム ,  パラジウム ,  金属薄膜
準シソーラス用語： 超格子構造

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 尺度 ,  被覆層 ,  パターン形成