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J-GLOBAL ID：201202287661009980   整理番号：12A0002062

耐原子状酸素性コーティングのポリイミドフィルムへの適用

著者 (6件)： 石澤淳一郎 (宇宙航空研究開発機構) ,  木本雄吾 (宇宙航空研究開発機構) ,  田村高志 (宇宙航空研究開発機構) ,  古田尚正 (東亞合成) ,  北村昭憲 (東亞合成) ,  鈴木浩 (東亞合成)
資料名： 宇宙科学技術連合講演会講演集(CD-ROM)  (宇宙科学技術連合講演会(CD-ROM))
巻： 55th  ページ： ROMBUNNO.1B01  発行年： 2011年 
JST資料番号： S0277B  ISSN： 1884-1945  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリイミド ,  *酸素 ,  被覆 ,  有機ケイ素化合物 ,  耐性 ,  宇宙環境 ,  照射試験 ,  紫外線照射 ,  電子照射 ,  汚染物質 ,  気体 ,  アウトガス ,  *シルセスキオキサン ,  *原子状酸素
準シソーラス用語： *コーティング ,  電子線照射

分類 (2件)： 飛しょう体の材料・製造  (QK04020S) ,  その他の高分子材料  (YH07150C)

タイトルに関連する用語 (3件)： 原子状酸素 ,  コーティング ,  ポリイミドフィルム